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마그네트론 스퍼터링 코팅 생산 라인

연속 마그네트론 스퍼터링 코팅 생산 라인 개요

연속 마그네트론 스퍼터링 코팅은 자기장을 사용하여 저압 환경에서 이온 빔의 움직임 궤적을 제어하여 재료 표면에 대한 스퍼터링 접착력을 달성함으로써, 기판 상에 균일하고 밀도가 높고 잘 아워 팅 된 박막을 형성하는 고급 박막 증착 기술이다. 이 기술은 재료의 경도, 내마모성 및 부식성을 향상시킬뿐만 아니라 광학을 바꿀 수 있습니다.
다른 필드의 요구를 충족시키기위한 전기 및 열 특성.

작업 원칙

연속 마그네트론 스퍼터링 코팅의 작동 원리는 표적 음극의 표면에 자기장을 도입하고 자기장을 사용하여 하전 입자를 제한하여 플라즈마 밀도를 증가시켜 스퍼터링 속도를 증가시키는 것입니다. 아르곤 이온은 캐소드에 의해 가속되고 음극 표면의 표면을 폭격하고 표면 표면으로부터 원자를 스퍼터링하고 기판 표면에 침착시켜 박막을 형성한다. 다른 재료의 목표를 변경하고 다른 스퍼터링 시간을 제어함으로써, 다른 재료와 두께의 박막을 얻을 수 있습니다.

기술적 이점

높은 증착 률 : Magnetron 전극의 사용으로 인해, 매우 큰 표적 폭격 이온 전류가 얻어 질 수 있으며, 이는 표면에서 높은 스퍼터링 에칭 속도와 기판 표면에서 높은 필름 증착 속도를 초래한다.
● 높은 전력 효율 : 저에너지 전자와 가스 원자 사이의 충돌 확률이 높아서 가스 이온화 속도가 크게 증가합니다. 이에 따라, 방전 가스 (또는 혈장)의 임피던스가 상당히 감소된다. 따라서, DC 다이오드 스퍼터링과 비교하여, 작동 압력이 1-10pa에서 10-2- 10-1Pa로 감소하더라도 스퍼터링 전압은 수천 볼트에서 수백 볼트로 감소하고 스퍼터링 효율 및 증착 속도는 크기에 의해 증가합니다.
저에너지 스퍼터링 : 표적에 적용되는 낮은 음극 전압으로 인해, 혈장은 음극 근처의 공간의 자기장에 의해 제한되어 기판의 한쪽에 고 에너지 하전 입자의 발생률을 억제한다. 따라서, 하전 입자 폭격에 의한 반도체 장치와 같은 기질로 인한 손상 정도는 다른 스퍼터링 방법보다 낮다.
광범위한 재료 적용 가능성 : 모든 금속, 합금 및 세라믹 재료는 표적 재료로 만들 수 있습니다. 직류 또는 무선 주파수 마그네트론 스퍼터링에 의해, 가스 참여를 갖는 금속 반응 필름뿐만 아니라 정밀하고 일정한 비율의 순수한 금속 또는 합금 코팅을 생성하여 다양한 및 고정밀 박막의 요구 사항을 충족시킬 수있다.

응용 프로그램 영역

연속 마그네트론 스퍼터링 코팅 기술은 통합 회로, 정보 저장, 액정 디스플레이, 레이저 메모리, 전자 제어 장치 등과 같은 전자 및 정보 산업에서 널리 사용됩니다. 또한 유리 코팅 분야에도 적용될 수 있습니다. 또한 내 입력 재료, 고온 내식성 및 고급 장식 제품과 같은 산업에도 적용될 수 있습니다 .

제품 매개 변수

지속적인 Magnetron Sputtering Coating 기술은 고효율, 균일 성 및 제어 성으로 인해 현대 산업에서 중요한 역할을합니다. 기술의 발전 으로이 기술은 새로운 재료 및 제품 개발을 계속해서 다양한 산업에 혁신과 개발 기회를 제공 할 것입니다 .

Kota Technology Limited Company

우리에 대해

Kota Technology Limited Company 2012 년에 설립 된 자본은 1 천만 위안의 자본을 보유하고 있으며 국가 첨단 기술 기업입니다.
중국 상하이에 본사를 둔이 회사는 Nantong, Yancheng 및 Jiangsu Province에있는 자회사를 보유하고 있으며 중국과 일본에 R & D 센터를 설립하여 글로벌 시장을 배치했습니다. 현재이 회사는 잘 알려진 국내 New Energy 지능형 장비 제조업체로 성장했으며 미국의 리튬 구리 포일 장비 분야의 기업입니다. 일본 나고야에있는 Matsuda Mitsuya가 이끄는이 회사의 핵심 기술 팀은 고 정밀 전자 기계 장비 분야에서 고급 제조 장비 및 자동화 시스템의 개발 및 통합에 중점을 둡니다. 일본의 고급 기술 및 설계 개념을 도입하고 일본의 원래 정밀 부품의 수입을 통해 회사가 생산 한 다양한 장비 제품은 업계 벤치 마크가되었습니다.

명예

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소식

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산업 지식

1. 연속 Magnetron 스퍼터링 코팅은 무엇이며 어떻게 작동합니까?
마그네트론 스퍼터링 코팅 생산 라인 재료 특성을 향상시키는 데 사용되는 고급 및 정확한 박막 증착 기술입니다. 그것은 표적 음극의 표면에 자기장을 도입하여 저압 환경에서 이온의 움직임을 안내합니다. 이로 인해 타겟으로부터의 원자가 가속화 된 아르곤 이온으로 폭격을당한 후 기판에 퇴적 된 스퍼터링 과정이 발생합니다. 이 박막 층은 스퍼터링 시간을 변화시키고 다른 대상 재료를 사용하여 필요한 두께 및 재료 사양을 충족하도록 사용자 정의 할 수 있습니다.
Hongtian Technology Co., Ltd.는 현대 산업에서 연속 마그네트론 스퍼터링 코팅과 같은 고급 제조 기술의 중요성을 이해합니다. 최첨단 전기 기계 장비 및 솔루션을 전문으로하는 회사로서 우리는 최신 기술을 활용하는 고품질 제품을 제공하기 위해 노력하고 있습니다. 우리의 고급 생산 능력에는 완비 된 생산 워크숍 및 창고가 포함되어있어 제품이 최고 수준의 품질과 효율성을 충족시킬 수 있습니다. Jiangsu Province의 Yancheng에 위치한 새로운 고급 전자 코퍼 포일 장비 공원은 기술 오퍼링을 향상시키기위한 지속적인 노력의 일부입니다. 이 시설을 통해 Magnetron Sputtering을 포함한 고급 코팅 기술을 에너지 및 전자 산업을위한 차세대 재료 및 스마트 장비 개발에 추가로 통합 할 수 있습니다.
자기 스퍼터링의 작동 원리는 혈장 및 이온 밀도를 매우 효율적인 방식으로 제어하는 ​​것입니다. 이온은 캐소드로부터 가속 된 표적 물질을 가속화하여 표적 원자를 배출 한 다음 기판 표면에 증착시킨다. 형성된 박막 층의 균일 성과 밀도는이 과정의 주요 속성으로, 내마모, 부식성 및 향상된 광학 또는 전기 특성과 같은 일관된 재료 특성이 필요한 응용 분야에 이상적입니다. 이 다목적 성은 코팅을 광범위한 기판에 적용하여 전자 제품, 자동차 및 에너지와 같은 산업에서 사용자 정의 및 정밀도를 제공 할 수 있습니다.

2. 연속 마그네트론 스퍼터링의 주요 기술적 이점은 무엇입니까?
마그네트론 전극의 사용은 큰 이온 폭격 전류를 생성하여 스퍼터링 공정이 가속화되고 증착 속도가 높아집니다. 이것은 효율성과 속도가 중요한 대규모 생산 환경에서 특히 유익합니다.
Magnetron Sputtering은 높은 전력 효율을 제공합니다. 가스 원자와 저에너지 전자의 충돌은 가스 이온화 속도가 높아져 방출 혈장의 임피던스를 감소시킨다. 이러한 임피던스 감소는 스퍼터링 공정이 낮은 전압 및 압력에서 작동하여 효율성이 향상되고 에너지 소비가 감소 함을 의미합니다. Hongtian Technology Co., Ltd.에서는 생산 비용과 지속 가능성에 직접적인 영향을 미치기 때문에 전력 효율성에 중점을 둡니다. Jiangsu의 새로운 고급 장비 공원과 같은 최첨단 제조 시설에 대한 지속적인 투자는 에너지 사용량을 더욱 최적화하고 전 세계 고객에게 제공하는 장비의 성능을 향상시키는 데 도움이됩니다.
또 다른 주요 장점은 낮은 에너지 스퍼터링이며, 이로 인해 더 통제 된 증착 공정이 발생합니다. 자기장은 캐소드 근처의 혈장을 제한하여 기질상의 고 에너지 입자의 폭격을 감소시킨다. 이 특성은 고 에너지 입자 노출이 손상을 일으킬 수있는 반도체와 같은 민감한 물질로 작업 할 때 특히 중요합니다. 전자 제품에서 자동차에 이르기까지 산업에 맞는 산업에 맞춤형 고성능 솔루션을 제공하기 위해 노력하는 회사로서, Hongtian Technology Co., Ltd.는 Magnetron과 같은 기술을 제품 오퍼링에 통합하여 최고 품질의 표준을 충족하면서 섬세한 재료에 대한 위험을 최소화합니다.
광범위한 재료 적용 가능성은 연속 마그네트론 스퍼터링의 광범위한 채택의 또 다른 이유입니다. 이 과정은 금속, 합금 및 도자기를 포함한 다양한 표적 재료를 수용 할 수있을 정도로 다양합니다. 이러한 유연성은 금속 코팅, 합금 필름 및 반응 필름을 포함한 특정 특성을 갖는 박막을 생산할 수 있으며, 이는 항공 우주, 자동차 및 통신과 같은 고정밀 코팅이 필요한 산업에 중요합니다.

3. 연속 마그네트론 스퍼터링 코팅의 주요 응용 분야는 무엇입니까?
연속 마그네트론 스퍼터링 코팅의 응용은 여러 산업에 걸쳐 광대하고 다양합니다. 가장 두드러진 분야 중 하나는 전자 및 정보 산업으로,이 기술은 통합 회로, 반도체 및 정보 저장 장치와 같은 구성 요소의 제조에 광범위하게 사용됩니다. 이러한 응용 분야에서, 맞춤형 전기 및 광학 특성으로 박막을 생산하는 능력이 중요합니다. Magnetron Sputtering은 필름 두께 및 재료 조성물을 정확하게 제어 할 수 있으므로 특정 전도도, 투명성 또는 반사 특성을 가진 코팅을 만드는 데 이상적입니다.
Hongtian Technology Co., Ltd.에서는 전자 제품과 같은 부문에서 지속적인 혁신의 중요성을 인식하고 있습니다. Jiangsu의 새로운 고급 장비 공원을 포함한 우리의 자체 생산 기능을 통해 정밀 및 재료 사용자 정의가 가장 중요한 전자 제조와 같은 분야에서 혁신을 계속 유지할 수 있습니다. 우리는 Magnetron Sputtering을 포함한 최신 기술을 통합하여 최신 응용 프로그램의 요구를 충족시키는 고품질 제품을 제공하는 최신 기술을 통합하는 최첨단 솔루션을 개발하기 위해 최선을 다하고 있습니다.
또 다른 중요한 응용 분야는 유리 코팅, 특히 건축 및 자동차 유리를위한 유리 코팅입니다. Magnetron Sputtering을 통해 생성 된 박막은 유리 표면의 내구성, 기능 및 모양을 향상시킬 수 있습니다. 여기에는 반사 방지 코팅, UV 보호 및 열 절연층이 포함됩니다. 이 코팅은 미적 매력을 향상시킬뿐만 아니라 열 흡수를 줄이고 유리의 강도를 향상시켜 에너지 효율에 기여합니다.
전자 제품 및 유리 코팅 외에도 마그네트론 스퍼터링은 내마비 재료 분야에서 널리 사용됩니다. 이 기술을 통해 자동차 부품, 산업 기계 및 절단 도구와 같이 높은 마찰에 노출 된 구성 요소의 내마모성을 향상시키는 단단하고 내구성있는 코팅을 만들 수 있습니다. Magnetron Sputtering을 통해 생성 된 박막의 높은 접착력 강도는 까다로운 작동 조건에서 이러한 코팅이 손상되지 않도록하여 구성 요소의 수명을 연장시킵니다 .